ترجمه مقاله A novel lightly doped drain and source Carbon nanotube field effect transistor (CNTFET) with negative differential resistance 

تماس با ما

فید خبر خوان

نقشه سایت

فروشگاه مهندس 360 | وبسایت مهندسی الکترونیک و کامپیوتر

http://kia-ir.ir

اگر به یک وب سایت یا فروشگاه رایگان با فضای نامحدود و امکانات فراوان نیاز دارید بی درنگ دکمه زیر را کلیک نمایید.

ایجاد وب سایت یا
فروشگاه حرفه ای رایگان

دسته بندی سایت

پر فروش ترین های فورکیا


    پر بازدید ترین های فورکیا

    برچسب های مهم

    پیوند ها

    اشتراک در خبرنامه

    جهت عضویت در خبرنامه لطفا ایمیل خود را ثبت نمائید

    Captcha

    آمار بازدید

    • بازدید امروز : 82
    • بازدید دیروز : 304
    • بازدید کل : 510377

    ترجمه مقاله A novel lightly doped drain and source Carbon nanotube field effect transistor (CNTFET) with negative differential resistance


    ترجمه مقاله A novel lightly doped drain and source Carbon nanotube field effect transistor (CNTFET) with negative differential resistance

    A novel lightly doped drain and source Carbon nanotube field effect transistor (CNTFET) with negative differential resistance

    یک ترانزیستور اثر میدانی نانو لوله کربنی (CNTFET) سورس و درین سبک آلاییده شده جدید با مقاومت دیفرانسیل منفی

    In this paper, we propose and evaluate a novel design of a lightly doped drain and source carbon nanotube field effect transistor (LDDS-CNTFET) with a negative differential resistance (NDR) characteristic, called negative differential resistance LDDS-CNTFET (NDR-LDDS-CNTFET). The device was simulated by using a non equilibrium Green’s function method. To achieve this phenomenon, we have created two quantum wells in the intrinsic channel by using two n-type regions. In the wells that are separated by a thin barrier, two resonance states are generated. On the other hand, the thickness of the barrier between the source and the well is variable depending on the energy level. Accordingly, with increasing gate-source voltage, the number of tunneling electrons and consequently drain-source current are varied. Furthermore, we have presented a structure with two n-type and three p-type regions in the channel that illustrates a larger NDR region. In this structure, the peak and valley of the drain-source current are shifted when compared with the previous structure. Finally, we investigated the effect of doping concentration on the NDR parameter.

    در این مقاله، طراحی جدیدی از درین و سورس به آرامی آلاییده شده ترانزیستور اثر میدانی نانولوله کربنی (LDDS-CNTFET) با مشخصه مقاومت دیفرانسیل منفی (NDR) را پیشنهاد و ارزیابی می کنیم که مقاومت دیفرانسیل منفی LDDS-CNTFET (NDR-LDDS-CNTFET) نامیده می شود. این افزاره با استفاده از متد تابع گرین غیر تعادلی شبیه سازی شده است. برای دستیابی به این پدیده، دو چاه کوانتومی را در کانال ذاتی با استفاده از دو ناحیه نوع n ایجاد نموده ایم. در چاه هایی که توسط یک سد نازک جدا شده اند، دو حالت رزونانس ایجاد می شود. از سوی دیگر، ضخامت سد بین سورس و چاه، بسته به سطح انرژی، متفاوت است. بر این اساس با افزایش ولتاژ گیت-سورس، تعداد الکترونهای تونل زنی و در نتیجه جریان درین – سورس، متغیر هستند. علاوه بر این، ساختاری با دو ناحیه نوع N و سه ناحیه نوع p را در کانال ایجاد نشان داده ایم که نشان دهنده ناحیه NDR بزرگتری است. در این ساختار، پیک (peak) و دره (valley) جریان درین-سورس، در مقایسه با ساختار قبلی، جابجا می شوند. در نهایت، اثر غلظت آلایش بر پارامتر NDR را مورد بررسی قرار داده ایم.

    تعداد صفحات: 12

      انتشار : ۸ دی ۱۳۹۶               تعداد بازدید : 1242

    برچسب های مهم


    مطالب تصادفی

    • جزوه فیزیک الکترونیک - دکتر قدیمی
    • جزوه الکترونیک 3 - دکتر قدیمی
    • جزوه بهره برداری سیستمهای قدرت
    • جزوه مقدمه ای بر هوش محاسباتی زیستی
    • جزوه اصول سیستمهای تصویر نگار پزشکی
    • زبان ماشین و برنامه سازی سیستم (زبان اسمبلی) به زبان فارسی
    • آموزش اکسس Access 2007
    • آموزش کامل Excel
    • الگوریتم برنامه نویسی
    • آموزش کامل Excel

    تمام حقوق مادی و معنوی این وب سایت متعلق به "" می باشد